一九九一年六月九日，清晨。
文京区，本乡。
皋月迷迷糊糊地睁开眼睛时，最先看见的是一片陌生的天花板。
卧室的窗帘没有完全拉紧，六月清晨的阳光从缝隙里照进来，在床尾和地毯上留下一条窄窄的光带。
房间里很安静，空调送风的声音轻得几乎听不见，旁边的人呼吸也很平稳。
……
等等，为什么旁边会有人？
皋月盯着天花板看了几秒，才想起这里是哪里。
西园寺·闲院·本乡，顶层公寓。
艾米的家。
她下意识想要起身，身体却只动了一点便被拉了回去。
向下看去，只见一条手臂横在她腰间，另一只手还扣着她的手腕。
艾米整个人从背后贴在她身上，脸埋在她的头发旁，一条腿还压住了她的双腿，像是生怕怀里的人会在睡梦中逃走，连最后一点缝隙都堵得严严实实。
皋月低头看了看腰间的手，又艰难地偏过脸。
艾米近在咫尺。
她睡得很熟，黑色的长发散在枕头上，嘴角还带着一点极其满足的笑意。
皋月沉默了片刻。
随后，她想起了几天前发生的事。
艾米在台场的实验线上，完成了一套被她称作“自校准计算光刻系统”的东西。
它将逆向光刻、相移掩模、光学邻近修正与曝光后的实测数据纳入了同一套计算流程中。系统先推演光线穿过掩模后产生的偏移，再根据实际结果修正掩模图形与曝光参数，以计算弥补设备精度的不足。
依靠这套系统，艾米只用一台现有的二百四十八纳米KrF实验设备，便刻出了零点一八微米的测试线条，随后又制造出一枚能够稳定运行的零点二五微米测试芯片。
零点一八微米目前还只是单纯的线条测试，零点二五微米芯片的规模也不大，良率更谈不上理想。可这两项结果已经证明，现有设备能够被推到远超原定极限的位置。为此，下村和光刻实验室的研究人员在台场连续复核了整整两天。
而这意味着，西园寺无需等待下一代光刻机进入工厂，便可以提前推进原本数年后才能实现的制程。现有设备的使用期限会被大幅延长，正在建设的试验产线也能由此跳过一段漫长的追赶过程。
远藤看完初步评估后，只在报告末尾写了一句话。
仅第一阶段，预计便可节省数百亿日元
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